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ion sputtering technology is a promising way to improve the object exterior performance.
等离子溅射技术处理是一种改进物质表面性能的十分有前途的方法。
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application of pulsed sputtering technology in aluminum oxide films deposition
脉冲溅射技术在氧化铝薄膜沉积中的应用
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periodic multilayers of w/ c and mo/ si have been developed with magnetron sputtering technology.
利用多靶磁控溅射方法分别镀制了W/C和Mo/Si两种周期性结构多层膜。
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study on surface evolution of cu thin films deposited by magnetron sputtering technology
磁控溅射Cu膜的表面形貌演化研究
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Deposition technology and properties of chromium oxide coatings by RF reactive sputtering
射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能
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随着磁控溅射技术的不断进步，大面积光学多层膜玻璃也日渐发展，广泛地应用于建筑、汽车、平板显示等行业。
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Study of DLC films residual stress by unbalanced magnetron sputtering technology
非平衡磁控溅射DLC薄膜应力研究
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氧化钒薄膜作为锂离子微电池阴极膜的磁控溅射技术的制备
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